Formula E | New York E-Prix – Due podi per Techeetah: “Siamo in lotta per entrambi i titoli”

Ottimismo in casa Techeetah in seguito al doppio podio ottenuto nei due E-Prix di New York, con Jean-Eric Vergne secondo sabato e Antonio Felix Da Costa terzo domenica.

Techeetah New York
Foto: DS Techeetah / LAT Images

Weekend positivo per DS Techeetah, seconda in classifica dopo il doppio E-Prix di New York ad un solo punto dalla Virgin, leader. Il team cinese ha raccolto un doppio podio con i suoi due piloti, uno ciascuno.

Sabato Vergne ha avuto un’ottima gara lottando per la vittoria dopo essersi qualificato secondo. Il francese ha attaccato Cassidy per guadagnare la prima posizione con successo, salvo poi perdere pochi attimi dopo la posizione su Max Gunther che ha poi vinto la gara. Gara più difficile per Da Costa, indietro in qualifica e quindi solo dodicesimo al traguardo.

Domenica la situazione tra i due piloti si è ribaltata. A brillare è stato il campione in carica, partito dalla settima casella. Da Costa è poi risalito fino al quarto posto grazie ad un ottimo uso dell’attack mode ed ha poi conquistato il podio ai danni di Mitch Evans. Da dimenticare invece la giornata di Vergne, colpito da problemi tecnici sia in qualifica mentre completava il suo giro veloce, sia al momento di cominciare la gara.


Dai un’occhiata alle classifiche dopo gli E-Prix di New York


Sensazioni miste per Vergne dopo il podio in Gara 1 e il ritiro in Gara 2: “[Sabato] mi sono qualificato secondo ed ho concluso secondo, era una buona gara ma sembra più come aver perso un’opportunità. Domenica non è stata una buona gara, non sono riuscito a qualificarmi a causa di un problema elettrico e non sono riuscito a partire per un problema ancora non identificato. Qui abbiamo avuto un passo forte, mancano ancora quattro gare, la lotta è accesa”.

Questo invece il commento di Da Costa: “Sabato è stata una giornata dura; la qualifica è stata ok, ma in gara non avevamo il passo per risalire. E’ comunque così bello lasciare questo weekend con un podio per tornare secondo in classifica partendo settimi e guadagnando posizioni. La lotta andrà avanti fino alla fine”. 

Thomas Chevaucher, direttore DS Performance, aggiunge: “Lasciamo New York con due podi, uno per pilota, il che è ottimo. L’auto è stata veloce tutto il weekend, peccato per i problemi tecnici con JEV domenica. Il gap resta molto sottile in classifica e siamo in lotta per entrambi i titoli. Siamo pronti a lottare tra due settimane a Londra”.

Seguici anche sui social: TelegramInstagramFacebookTwitter

Seguici nel nostro nuovo canale Telegram interamente dedicato alla Formula E per non perderti nessuna news del campionato 100% elettrico!

Formula E | New York E-Prix – Nissan: “Sul giro secco ci siamo, lavoreremo sulla gara”

Emanuele Zullo

Classe 2005, vivo a Napoli dove frequento il liceo linguistico. Adoro qualsiasi cosa abbia quattro ruote e spero di trasformare la mia passione in lavoro.